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PLD沉积腔和控制系统
2016-09-26 20:07  审核人:
设备编号2015260700仪器负责人李山东
中文名称PLD沉积腔和控制系统 英文名称 Pulse    Laser Deposition System
规格型号 PLD-400型 产地国别中国
仪器安放地址青岛大学中心校区西院科技馆四层401
主要科学领域薄膜生长 
主要技术指标真空度10-6Pa;样品加热最高温度800摄氏度;真空退火炉最高温度700摄氏度;内置四个靶材托可进行交替溅射;内置样品挡板可进行梯度溅射。 
主要功能   与激光器结合生长薄膜。 

 
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